// Prezentacja produktu SAPHIR 2050

Chromowanie w procesie bębnowym - czy to możliwe?

Powłoki chromowe odgrywają istotną rolę w technologii pokryć galwanicznych, zarówno te dekoracyjne, jak i funkcjonalne. W niektórych obszarach pokrywania powłokami dekoracyjnymi, chromowanie trójwartościowe zostało już z powodzeniem wdrożone i to pomimo konieczności bardziej rygorystycznej kontroli procesu, w porównaniu do elektrolitów sześciowartościowych. W odróżnieniu od elektrolitów sześciowartościowych, jedną z zalet, nie licząc zmniejszenia szkodliwości dla zdrowia, jest to, że proces pokrywania może być kontynuowany nawet po krótkiej przerwie w zasilaniu.

Tę właściwość wykorzystaliśmy przy opracowywaniu naszego nowego elektrolitu SAPHIR 2050. Technologia SAPHIR 2050 to innowacyjny proces bębnowy do osadzania chromu (III). Rozwiązanie to eliminuje potrzebę czasochłonnego i żmudnego procesu mocowania małych części, umożliwiając chromowanie bezpośrednio po procesie niklowania bębnowego. Powstaje atrakcyjna wizualnie, jasna warstwa chromu (Rys. 1).

Cały proces można kontrolować za pomocą różnych dodatków. Dozowanie przebiega głównie na bazie płynnej. Najważniejsze dodatki i parametry pracy przedstawiono w tabeli 1. System SAPHIR 2050 został z powodzeniem przetestowany w laboratorium jak i u klienta. Grubość powłoki 0,1-0,3 μm chromu uzyskano w ciągu 30 minut. Ze względu na bardzo dobrą wgłębność technologii, małe elementy mogą być całkowicie pokryte w bębnie, jak pokazano na rysunku 2. Aby przetestować SAPHIR 2050 w praktyce, zbudowano przenośny zbiornik testowy, który pozwala na przetestowanie procesu bezpośrednio w zakładzie (Rys. 3).

 Wartości graniczneOptimum
SAPHIR 2000 Donator65 – 75 ml/l70 ml/l
SAPHIR 2000 Conductor270 – 300 g/l280 g/l
SAPHIR 2000 Improver40 – 50 ml/l45 ml/l
SAPHIR Additiv 95010 – 15 ml/l13 ml/l
Temperatura50 – 55 °C52 °C
Wartość pH3,2 – 3,63,4
Czas ekspozycji30 – 60 min. lub wg potrzeb
Gęstość 23 °Be

Tab. 1: Parametry robocze SAPHIR 2050

Bezkobaltowy elektrolit SAPHIR 2050 funkcjonuje w szerokim przedziale roboczym, a dodatki mogą być z łatwością przeanalizowane. Zarówno elektrolit, jak i woda
płucząca mogą być utylizowane na miejscu zgodnie z opracowanymi przepisami. Metoda ta otwiera możliwość usprawnienia procesów i uproszczenia ich przebiegu.

Próbki pokryte powłoką w urządzeniu testowym przy użyciu SAPHIR 2050 (wszystkie zdj. Kiesow)
Próbki pokryte powłoką w urządzeniu testowym przy użyciu SAPHIR 2050 (wszystkie zdj. Kiesow)
Przygotowane próbki u klienta (20 A, 30 min., 52 °C). Grubość warstwy wynosiła 0,18-0,29 μ
Przygotowane próbki u klienta (20 A, 30 min., 52 °C). Grubość warstwy wynosiła 0,18-0,29 μ
Wanna do testów bębnowych bezpośrednio w zakładzie. Wanna jest wyposażona w pompę, podgrzewacz i zestaw do wymiany jonowej
Wanna do testów bębnowych bezpośrednio w zakładzie. Wanna jest wyposażona w pompę, podgrzewacz i zestaw do wymiany jonowej